關(guān)于SPUTTER系列

NSC-2350是用于光學(xué)薄膜的金屬式濺射設(shè)備,尤其適用于大面積基板的系統(tǒng)。 可用于移動(dòng)終端設(shè)備、汽車等大面積面板的AR+AS膜。

特征
鍍膜面積:高1100mm×寬450 mm
6個(gè)陰極靶
用可選組件更換陰極
高反應(yīng)性等離子體源實(shí)現(xiàn)低吸收膜
自動(dòng)上下片基板搬送系統(tǒng)
通過(guò)優(yōu)化沉積和搬送系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)低顆粒薄膜
一個(gè)程序可鍍AR/AS膜
規(guī)格
真空腔體 裝片室:304不銹鋼,寬700mm×高1860 mm×深1760 mm
卸片室: 寬700×高1860×深1760mm
運(yùn)送室: 寬660×高1860×深1760mm
工藝室:304不銹鋼,直徑2350 mm×高1950 mm
基板夾具 可選15– 22片
基板旋轉(zhuǎn)滾筒系統(tǒng) 直徑2245 mm, 滾筒式, 10rpm-50 rpm(可調(diào))
反應(yīng)源 ICP(電感耦合等離子體)
濺射源 雙旋轉(zhuǎn)陰極(可選平面靶材)
真空系統(tǒng) 粗抽泵,分子泵,冷阱
性能
極限壓力 裝片室:10Pa
工藝室:≤2.0 × 10-4?Pa
抽氣速率 裝片室:≤8 分鐘 (從大氣到 10Pa)
工藝室:≤40分鐘(從大氣到9.0×10-4?Pa)
工作條件
設(shè)備尺寸 7000 mm (寬) × 6600 mm (深)×4000 mm (高)
電源 3相+G, 380V±5%、300kVA、50/60Hz
水流量 ≥400升/分鐘(水壓:0.6-0.7 Mpa)
壓縮空氣 0.5 MPa - 0.7 MPa
總重重 約30000 kg