OTFC-1550

特征

真空室尺寸：Φ600-1800mm

60點/80點式光學(xué)膜厚監(jiān)控

使用均勻分布的高離子電流密度的離子源

搭載雙電子槍，多點和環(huán)型坩堝可鍍100層以上

利用自動蒸鍍控制系統(tǒng)實現(xiàn)全自動蒸鍍過程

工件架可選擇鐘罩式或行星式

排氣系統(tǒng)可選擇擴(kuò)散泵+低溫冷凝器(POLYCOLD)或冷凝泵

規(guī)格

設(shè)備名稱 OTFC-900CBI/DBI

真空室 SUS304, φ900mm×1300mm (H)

工件架 φ 790mm

工件架轉(zhuǎn)速 10 rpm to 30 rpm (可變)

光學(xué)膜厚控制 HOM2-R-VIS350A光學(xué)膜厚監(jiān)控儀波長范圍：350nm to1100nm反射式/透射式可選

水晶式膜厚計 XTC/3+6點式水晶傳感器

蒸發(fā)源 電子槍2套

離子源 10cm RF 離子源

排氣系統(tǒng) 機(jī)械泵+1個擴(kuò)散泵+Polycold（或1個冷凝泵）

性能

達(dá)到壓力 7.0 × 10-5 Pa 以下

排氣時間 15 分 (大氣壓 1.3×10-3 Pa)

基板溫度 最高：350℃

工作條件

設(shè)備尺寸 4500mm (W)×5500mm (D)×3200mm (H) approx.

電源 3相,200v,50/60Hz, 約80KVA

水流量 180升/分以上

空氣壓力 0.5MPa 以上

重量 約5400kg