離子源
OIS-Three/OIS-Three Plus
RF Ion Source
OIS-Three/ OIS-Three Plus是離子輔助蒸鍍的RF離子源，可以均勻照射Ф1600傘架。適合高速率下的真空蒸著及基板清潔。搭載在OTFC-1800光學(xué)鍍膜機(jī)上，適合于各種高性能光學(xué)濾光片的大批量生產(chǎn)。
- 特征
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新開發(fā)的特殊柵網(wǎng)，壽命長
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同使用燈絲型的離子源相比，壽命長，污染少
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高離子電流密度和均勻分布，照射面積能達(dá)到Ф1600mm以上
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動(dòng)作安定性高，能長時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)
- 規(guī)格
- 型號(hào) OIS-Three OIS-Three Plus
- 尺寸 φ 390mm × 215mm(H)
- 柵網(wǎng)尺寸 Ф 23cm(Molybdenum制3枚)
- 離子束電壓 100V～1500V
- 離子束電流 1800mA 2400mA
- Acc電壓 100V～1000V
- RF功率 2000W
- 氣體流量 20sccm～40sccm（氬氣）40sccm～80sccm（氬氣）
- 使用壓力 5 × 10-2 Pa
- 水冷方式 RF線圈和本體
- 中和器規(guī)格
- 尺寸 φ 7cm × 12cm
- 發(fā)射電流 2800mA(max)
- RF功率 150W(max）
- 氣體流量 5sccm～10sccm（氬氣）
